<p class="ql-block">我國(guó)60年代就曾布局過(guò)光刻機(jī)且技術(shù)先進(jìn),那時(shí)光刻機(jī)巨頭ASML還沒(méi)誕生,直到70年代,ASML仍是小字輩。進(jìn)入70年代,中國(guó)的光刻技術(shù)繼續(xù)“一路小跑”向前發(fā)展。</p> <p class="ql-block">1972年,武漢無(wú)線電元件三廠編寫的《光刻掩模版的制造》,32開(kāi)66頁(yè)</p><p class="ql-block"><br></p><p class="ql-block">中國(guó)芯片光刻工藝研究起步,雖比美國(guó)稍晚,但跟日本差不多同時(shí)起步,比韓國(guó)、臺(tái)灣早10年。1977年,全國(guó)光刻機(jī)座談會(huì)順利召開(kāi),全國(guó)各地的精英們齊聚一堂,目標(biāo)只有一個(gè),那就是追趕世界先進(jìn)水平。</p><p class="ql-block">在大家的共同努力下,成果也是一個(gè)接一個(gè)。1979年,哈爾濱量具刃具廠成功研制出KHA75-1型大面積半自動(dòng)光刻機(jī),這臺(tái)光刻機(jī)在某些重要指標(biāo)上,已經(jīng)和當(dāng)時(shí)日本佳能PLA500-F型光刻機(jī)的水平相當(dāng)了。1980年,清華大學(xué)也不甘落后,成功研制出第四代分步式投影光刻機(jī),精度達(dá)到3微米,接近國(guó)際一流水準(zhǔn)。1985年,機(jī)電部45所研制出的分步光刻機(jī),技術(shù)水平更是達(dá)到了美國(guó)4800DSW的標(biāo)準(zhǔn),和國(guó)際先進(jìn)水平的差距不超過(guò)7年。</p><p class="ql-block">1980年光刻機(jī)項(xiàng)目下馬,2020年中國(guó)手機(jī)被芯片扼住了喉嚨光刻機(jī)(Mask Aligner)是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。截至目前,我國(guó)光刻機(jī)能制造的芯片是14納米,但是無(wú)法滿足如華為手機(jī)等高端芯片的應(yīng)用,因此只能從荷蘭ASML公司進(jìn)口。上世紀(jì)六十年代,我國(guó)就開(kāi)始布局研發(fā)光刻機(jī),彼時(shí)荷蘭光刻機(jī)生產(chǎn)巨頭ASML尚未成立。1965年中國(guó)科學(xué)院研制出65型接觸式光刻機(jī)。1970年代,中國(guó)科學(xué)院開(kāi)始研制計(jì)算機(jī)輔助光刻掩模工藝。1972年,武漢無(wú)線電元件三廠編寫了行業(yè)生產(chǎn)指導(dǎo)《光刻掩模版的制造》。1980年清華大學(xué)研制成功第四代,光刻精度達(dá)到3微米,接近國(guó)際主流水平……然而到了上世紀(jì)八十年代,包括運(yùn)10、直8、遠(yuǎn)程轟炸機(jī)、大型導(dǎo)彈驅(qū)逐艦、長(zhǎng)城/曙光大型計(jì)算機(jī)項(xiàng)目、數(shù)字焊接系統(tǒng)等一系列軍用、民用高精尖技術(shù)項(xiàng)目下馬,光刻機(jī)項(xiàng)目也在其中。彼時(shí)武漢無(wú)線電元件三廠在光刻機(jī)的科研上已經(jīng)在光刻機(jī)項(xiàng)目上有了20多年的技術(shù)積累,是有可能實(shí)現(xiàn)從量變到質(zhì)變的過(guò)程。然而沒(méi)有了國(guó)家經(jīng)費(fèi)的支持,一切都成了空談。</p><p class="ql-block">當(dāng)咱們重新意識(shí)到光刻機(jī)的重要性時(shí),ASML已經(jīng)穩(wěn)穩(wěn)地坐在全球光刻機(jī)霸主的寶座上,歐美國(guó)家還對(duì)咱們進(jìn)行技術(shù)封鎖,這可太難了!</p><p class="ql-block">咱們不僅要自己,從頭開(kāi)始研發(fā)光刻機(jī),還得自己制造,所有的關(guān)鍵零部件,難度簡(jiǎn)直呈幾何倍數(shù)地增長(zhǎng)。</p><p class="ql-block">但咱們中國(guó)人可從來(lái)不會(huì)被困難嚇倒!</p><p class="ql-block">這幾年隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的崛起,咱們的光刻機(jī)技術(shù)也在飛速進(jìn)步。</p><p class="ql-block">最近國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的分辨率已經(jīng)達(dá)到了65nm,套刻精度小于8nm,距離浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)僅一步之遙。</p>